2007年，上海微電子就研制出了我國首臺90納米高端投影光刻機，成為世界上第四家掌握高端光刻技術的公司。但是，十多年過去了，如今的光刻技術依舊停留在90納米。

國產光刻機到底有多“難產”，我們在上上上上上上上一篇就說過了。

文章指路→→“難產”的國產光刻機

作為代表著我國光刻技術先進水平的上海微電子，從誕生之際就被寄予了厚望。

時間回到2002年，科技部下決心在“十五”期間將光刻機作為微電子裝備首要攻關項目。在國家科技部和上海市政府共同推動下，由國內多家企業集團和投資公司共同投資組建下， 為實現“用中國人的光刻機造中國芯”的夢想，2002年3月，上海微電子裝備有限公司（SMEE）在上海張江應運而生。

 

原本就職于上海電氣集團執行副總裁的賀榮明，受上級指派擔任上微總經理，帶著同行的小伙伴們一頭扎進了光刻機鉆研之路。

SMEE自“十一五”開始至今一直被國家確定為“02”科技重大專項高端掃描投影光刻機研制和先進封裝光刻機產業化的承擔單位。

什么是“02專項”？

很簡單，因為在國家劃出的16個高科技領域重大專項中，關于芯片制造的項目排在第2位，所以行業統稱為“02專項”。

據悉，02專項光刻機項目有多個部門參與，分別負責不同的子項。其中，上微也認領到了02專項的部分參與項目:

承擔“浸沒光刻機關鍵技術預研項目”

90nm光刻機樣機研制

65nm光刻機研制

大視場/雙面對準步進投影光刻機

28nm節點浸沒式分步重復投影光刻機研發成功并實現產業化

等等。

在02專項光刻機項目二期中，設定的時間為2020年12月驗收193nmArF浸沒式DUV光刻機，對標產品為ASML現階段最強DUV光刻機：TWINSCAN NXT:2000i。

距離今天倒計時

不到4個月

首臺光刻樣機問世

 

 

是什么卡住了我們的“脖子”？

 

 

 

 

當我國攻破這些難題之后，開始從90nm向65nm光刻機進發。得知此消息的國外陣營立刻擺出了第二張面孔，2015年以美國為首的瓦森納協議表示允許65nm以上的設備銷售給中國。要知道，2010年的可是禁售90nm以下的設備，到了2015年就改成了65nm以下了。

2017年1月份，公司完成股改，正式更名為上海微電子裝備（集團）股份有限公司。目前上海微電子自主研發的600系列光刻機，已經實現90nm的量產。在封裝光刻機領域已經實現了批量供貨，上微是多家封測龍頭企業（日月光、通富微電、長電科技等）的主要供貨商，國內封裝光刻機市場占有率高達80%。不只在國內市場有所建樹，上海微電子的封裝光刻機還出口海外市場，在全球市場的占有率高達40%。

 

據公開資料顯示，SMEE直接持有的各類專利及專利申請超過3200項，涉及光刻機、激光與檢測、特殊應用類等各大產品技術領域，是國內工業4.0、先進制造、智能制造的典型代表。

2020年6月，SMEE透露，將在2021-2022年交付首臺國產28nm工藝浸沒式光刻機。這則讓全民都振奮的消息，意味著國產光刻機工藝從以前的90nm一舉突破到28nm。消息一出，ASML就立即甩貨同代與上代的光刻機搶占中國市場。還是一貫的伎倆、一如既往地的手段，但是，我們只能往前。

 

“你看過賽馬嗎？馬的雙目邊都有塊"板"，這樣馬的視覺廣角小一點，更專心往前跑”，賀榮明說，“歷史賦予我們這批人研發中國光刻機的任務，我們也就不該再想別的了。”